ТЕХНОЛОГИЯ ПРИБОРОВ ОПТИЧЕСКОЙ ЭЛЕКТРОНИКИ И ФОТОНИКИ

Введение......Page 6
1.1 Получение материалов для приборов оптической и квантовой электроники......Page 8
1.3 Подобие технологических процессов......Page 9
1.4 Законы регулирования параметров процесса......Page 10
1.6 Пневматические устройства управления процессами......Page 11
1.7 Уровни математического описания процесса......Page 13
2.2 Методы оценки параметров технологичности......Page 14
2.3.1 Язык релейно-контактных символов......Page 18
2.3.4 Язык управления типа «КАУТ»......Page 19
2.3.5 Язык программирования измерительной аппаратуры SCPI......Page 20
2.3.7 Язык LD......Page 22
3.1 Технологические вакуумные системы и установки......Page 23
3.3 Расчет вакуумных систем......Page 25
3.4 Согласование откачных средств......Page 27
3.5 Измерение парциальных давлений......Page 28
3.6 Алгоритм включения и выключения типовых вакуумных установок с масляными средствами откачки......Page 31
3.7 Практические рекомендации по поиску негерметичности вакуумных систем......Page 32
4.1 Межфазное равновесие процессов......Page 34
4.2 Теплота, внутренняя энергия, энтальпия, энтропия, свободная энергия......Page 35
4.3 Фазовая диаграмма......Page 37
4.4 Применение теории межфазных взаимодействий при формировании высококачественных пленок......Page 38
5.1 Вакуумная гигиена и очистка материалов......Page 40
5.2 Общая схема очистки материалов для приборов оптической электроники и фотоники......Page 41
5.3 Электрофизические методы очистки......Page 42
5.5 Ионное травление материалов......Page 44
6.1 Физико-химические процессы получения наноматериалов......Page 46
6.2 Назначение и типы пленок......Page 49
6.4 Термовакуумное испарение пленок......Page 50
6.5 Процессы термического испарения материалов......Page 51
6.6 Электронно-лучевой метод формирования пленок......Page 53
6.7 Магнетронное формирование пленок......Page 54
6.8 Электродуговое формирование покрытий в вакууме......Page 55
6.9 Формирование пленок с помощью ионных источников......Page 56
6.10.1 Резистивный метод измерения толщины пленок......Page 57
6.10.2 Емкостной метод измерения толщины пленок......Page 58
6.10.4 Ионизационный метод измерения толщины пленок......Page 59
6.11 Экспресс методы сравнительного анализа толщины пленок
......Page 60
7.1 Понятие эпитаксии......Page 61
7.2 Виды эпитаксий......Page 62
7.3.1 Теория кинетики процесса эпитаксии......Page 64
7.5 Теория формирования пленки по Н.Н. Семенову......Page 71
7.6 Фазовая диаграмма процесса роста эпитаксиальных пленок......Page 72
7.7 Методы анализа эпитаксиальных структур......Page 74
7.8 Растровая электронная микроскопия......Page 79
8.1 Технология приборов квантовой электроники......Page 81
8.2 Технология одноэлектронных квантовых приборов......Page 82
8.4 Технология формирования светоизлучающих структур......Page 84
Рекомендуемая литература......Page 85