Харьков: ННЦ ХФТИ, 2005. — 236 с.
300 dpi, ч/б, постранично, распознаноРассмотрены физические процессы, происходящие на электродах и в межэлектродном пространстве вакуумно-дугового разряда, в том числе новая физическая модель катодного пятна, его поведение в магнитных полях и взаимодействие с поверхностью катода. Описаны основные прнципы конструирования вакуумно-дуговых испарителей и их конструкции. Приведены свойства и результаты применения на режущих инструментах покрытий TiN, TiCN, TiAIN, TiCrN, MoN, Mo(S,N), а также некоторых нанаструктурных покрытий. Описаны примеры комбинированной обработки изделий путём их азотирования с последующим нанесеннем покрытий, а также процессов нанесения покрытий с последующей термообработкой.
Книга рассчитана на научных сотрудников и инженеров, работающих в области материаловедения вакуумных покрытий, создания и эксплуатации вакуумно-дуговых установок, а также студентов и аспирантов машиностроительных и электротехнических ВУЗов.
