Учеб. метод. пособие. — Н. Новгород: Изд-во ННГУ, 2006. — 99 с.Материал включает в себя: описание основных подходов к проектированию многослойных оптических покрытий, описание конструкций основных оптических покрытий, особенностей их формирования по тонкопленочной технологии, способов фотометрического контроля оптической толщины пленки в процессе напыления, описание технологических особенностей электроннолучевого испарения в вакууме как метода формирования просветляющих и зеркальных покрытий, узкополосных и отрезающих светофильтров.
Рис. 47, Табл. 14.Содержание
Основы проектирования оптических покрытий
Анализ и синтез интерференционных покрытий
Многолучевая интерференция
Матричный метод
Принципы проектирования просветляющих покрытий
Расчет и конструкции интерференционных зеркал
Принципы проектирования интерференционных светофильтров
Интерференционные поляризаторы и ослабители
Тонкопленочные материалы для многослойных оптических покрытий
Особенности технологии оптических покрытий
Основные технологические принципы создания оптических покрытий
Особенности получения интерференционных покрытий методом электроннолучевого испарения в вакууме
Оптические покрытия, сформированные методом электроннолучевого испарения
Свойства тонких пленок
Многослойные оптические покрытия
