Учебное пособие. — М.: МИЭТ, 2011. — 204 с.Рассмотрены с физико-химических позиций развитие систем металлизации кремниевых интегральных схем, выбор материалов функциональных слоев металлизации и процессы формирования элементов металлизации. Приведены закономерности взаимодействия в различных силицидообразующих системах металл - кремний и особенности формирования силицидных контактных слоев; принципы выбора материалов диффузионно-барьерных
слоев; различные физико-химические методы заполнения узких траншей и контактных колодцев проводящим материалом для создания межсоединений посредством технологии «Damascene».
Разработано для основной образовательной программы подготовки магистров по направлению 210100 Электроника и наноэлектроника, соответствующей тематическому направлению деятельности ННС Наноэлектроника.
Для студентов, изучающих дисциплину Металлизация в системах с наноразмерными элементами, а также аспирантов, инженеров и научных работников, занимающихся вопросами технологии интегральных микросхем.
