Учебное пособие. - Томск, Издательство Томского университета, 2009, 182 с.
Изложены основы процессов фотолитографии для производства изделий электронной техники в строгой последовательности химических и физико-химических операций. Дан необходимый теоретический материал, описаны методики проведения практических работ по всему циклу фотолитографии и контроля качества полученного рисунка, представлен большой объем справочных данных. Используются современные методы исследования, в том числе методы оптимизации и планирования эксперимента.
Для студентов и аспирантов университетов и вузов электронного направления, а также специалистов, работающих в областях полупроводникового материаловедения, разработки и изготовления полупроводниковых приборов.
