Учебник. Под ред. Б.А. Калина. М.: Круглый год, 2001. 528 с.
SBN 5-88671-050-7
В учебнике рассмотрены принципы построения, основы и направления использования перспективных радиационно-пучковых технологий для обработки и синтеза новых материалов. С позиций физики взаимодействия заряженных частиц, излучения и потоков энергии с твердым телом описаны различные особенности использования ионных и электронных пучков, лазерного излучения, низкотемпературной и высокотемпературной плазмы для модифицирования приповерхностных слоев различных материалов с целью улучшения их свойств, особенности получения новых структурно-фазовых состояний и материаловПерспективные технологии в материаловедении
Физические процессы при взаимодействии ионов с твердым телом
Основные процессы при воздействии концентрированных потоков энергии на материалы
Методы получения и транспортировки пучков заряженных частиц
Имплантация ионов в полупроводники и металлы
Электронные пучки и их применение
Мощные ионные пучки и их применение
Потоки высокотемпературной импульсной плазмы и их применение
Лазерное излучение и его применение
Радиационно-пучковый синтез новых материалов
Проблемы выбора радиационно-пучковых технологий
