В книге описаны процессы изготовления полупроводниковых приборов и микросхем диффузией, планарной и элионной технологией, а также нанесения эпитаксиальных, диэлектрических и металлических пленок. Рассмотрено технологическое оборудование.
Третье издание (2-е — в 1980 г. "Вакуумно-термические и термические процессы в полупроводниковом производстве") дополнено материалом по основным термическим процессам, а также сведениями об их комплексной автоматизации.
Author(s): Моряков Олег Сергеевич
Series: Профессионально-техническое образование
Edition: 3
Publisher: Высшая школа
Year: 1987
Language: Russian
Commentary: by pohorsky
Pages: 200
City: Москва
Предисловие
Введение
Глава первая. Основные сведения о контрольно-измерительных приборах
§1. Электро-и радиоизмерительные приборы
§ 2. Термоэлектрические преобразователи и термометры сопротивления
§ 3. Приборы для измерения и регулирования температуры
§ 4. Приборы для измерения давления и расхода
§ 5. Приборы для измерения параметров атмосферы производственных помещений
§ 6. Информационно-измерительные системы
Глава вторая. Основные сведения о технологическом процессе производства полупроводниковых приборов и микросхем
§ 7. Электронная гигиена
§8. Технологические среды
§ 9. Очистка полупроводниковых пластин, технологической оснастки и тары
§ 10. Полупроводниковые приборы, микросхемы и их корпуса
§11. Обработка полупроводниковых материалов и подложек
§ 12. Фотолитография
Глава третья. Термические процессы в микроэлектронике
§ 13. Общие сведения
§ 14. Способы теплопередачи
§ 15. Классификация технологических процессов и оборудования
§ 16. Автоматические системы регулирования и поддержания температуры
Глава четвертая. Термические процессы изготовления электронно-дырочных переходов диффузией примеси
§ 17. Общие сведения
§ 18. Технологические методы нанесения оксидных пленок
§ T9. Технология диффузионных процессов
§ 20. Контроль качества диффузионных слоев и оксидных пленок
§ 21. Термическое оборудование для выполнения процессов окисления и диффузии
Г лава пятая. Элионная технология в производстве изделий микроэлектроники
§ 22. Общие сведения
§ 23. Изготовление электронно-дырочных переходов элионной технологией
§ 24. Оборудование для выполнения процессов элионной технологии
Глава шестая. Технологические процессы наращивания эпитаксиальных слоев
§ 25. Общие сведения
§ 2б. Технология наращивания эпитаксиальных слоев
§27. Контроль и измерение параметров эпитаксиальных слоев
§ 28. Оборудование для наращивания эпитаксиальных слоев
Глава седьмая. Основы вакуумной техники
§29. Общие сведения
§ 30. Средства создания вакуума
Глава восьмая. Технология нанесения металлизации
§31. Общие сведения
§ 32. Нанесение тонких пленок методом испарения и конденсации в вакууме
§ 33. Нанесение тонких пленок методом ионного распыления
§34. Нанесение тонких пленок методом магнетронного распыления
§35. Измерение толщины пленок
§ 36. Многослойная металлизация
§37. Нанесение толстых пленок
§38. Ионно-плазменное травление
§ 39. Вакуумные установки для нанесения тонких пленок
§ 40. Изготовление полупроводниковых приборов и микросхем по планарной технологии
Глава девятая. Технология сборочных работ
§41. Общие сведения о монтаже кристаллов
§42. Контактно-реактивная пайка
§43. Пайка эвтектическими сплавами
§44. Общие сведения о присоединении электродных выводов
§45. Термокомпрессионная сварка
§46. Ультразвуковая сварка
§ 47. Оборудование для монтажа кристаллов в корпуса и присоединения электродных выводов термокомпрессионной и ультразвуковой сваркой
§ 48. Микроконтактная сварка
§49. Пайка электродных выводов
Г лава десятая. Герметизация полупроводниковых приборов и микросхем. Контроль герметичности
§50. Общие сведения
§ 51. Герметизация корпусов контактной контурной электросваркой
§52. Герметизация корпусов лазерной сваркой
§ 53. Герметизация корпусов электронно-лучевой сваркой
§ 54. Герметизация корпусов микроплазменной сваркой
§ 55. Контроль герметичности корпусов
§?56. Масс-спектрометрический метод контроля герметичности корпусов
Глава одиннадцатая. Основы комплексной автоматизации термических процессов
Заключение
Рекомендуемая литература
