Москва, Наука 1982, Табл 24, Ил 127, Библиогр 427 назв.В монографии систематизированы данные по импульсному отжигу полупроводниковых материалов, в основном по отжигу имплантированных ионами слоев наносекундными, миллисекундными импульсами и сканирующими лучами. Основное внимание уделено отжигу радиационных дефектов и кристаллизации разупорядоченных слоев, активации и перераспределению примеси. Приводятся типовые расчеты тепловых полей, их релаксации и описание техники импульсных отжигов. Обсуждаются дискуссионные вопросы о влиянии атермических факторов, выделены нерешенные проблемы, приведены примеры практического использования импульсных обработок.
Монография является введением в новую быстро развивающуюся область — ионно-импульсную модификацию материалов. Она рассчитана на специалистов — физиков и инженеров, занимающихся проблемами твердотельной электроники.
