Курс лекций. - Москва, МИСиС, 2008. - 156 с.В учебном пособии рассматриваются закономерности изменения параметров тонкопленочных гетерокомпозиций материалов электронной техники при воздействии электронных, ионных потоков и низкотемпературной плазмы для микро- и наноразмерных устройств с улучшенными характеристиками. Цель данного пособия - формирование современных представлений и достижений в области микро- и наноиндустрии.
Учитывая, что в рассматриваемых процессах основную роль играют электроны и ионы, принято для краткости называть технологию элионной.
Соответствует программе курса «Элионная технология в микро- и наноиндустрии».
Предназначено для подготовки специалистов по направлению 210100 «Электроника и микроэлектроника» и может быть полезно для обучающихся по направлению 210600 «Нанотехнология», 210601 «Нанотехнология в электронике» и по специальности 210602 «Наноматериалы».Предисловие
1 Ионно-плазменное осаждение слоев
Стимулированное плазмой осаждение пленок оксидов
Плазмохимическое осаждение пленок нитридов
Электроискровое нанесение слоев
2 Применение ионной имплантации
Особенности ионной технологии
Применение ионного легирования в планарной технологии
Имплантация примеси в многослойные гетерокомпозиции
3 Особенности применения электронных процессов в электронике
Перспективы электронной технологии в электронике
Температурное поле в зоне обработки электронами
4 Литографические методы в микро- и наноэлектронике
Возможности оптической литографии
Электронно-лучевая литография
Голографическая и рентгеновская литография
Ионно-лучевая литография
Ограничения процессов в литографии
Примеры получения устройств микро- и наноиндустрии
Заключение
Библиографический список
