Учебное пособие. Моск. гос. ин-т электроники и математики. М., 2006, 36с.В пособии изложены физические основы процессов ионно-плазменного нанесения тонких пленок. Рассмотрены разновидности процесса ионно-плазменного и плазмохимического нанесения пленок. Кратко рассмотрено ионно-лучевое осаждение металлических и алмазоподобных углеродных пленок.
Пособие предназначено для студентов специальности 200100 по дисциплине Физические основы ионно-плазменной технологии.
