Дано исчерпывающее изложение современного состояния знаний о высокочастотном разряде емкостного типа. Рассмотрена физика разрядных процессов, техника и практические методы эксперимента, диагностики, измерений при работе с высокочастотными разрядами, теория и численное моделирование разрядного процесса. Приведены важнейшие практические приложения: для создания активной среды лазеров (разряды среднего давления), плазменной и ионной обработки полупроводниковых материалов, используемых в электронике (разряды низкого давления). Для студентов и аспирантов физических и соответствующих инженерных специальностей вузов, а также для научных работников и инженеров.
Author(s): Райзер Ю.П., Шнейдер М.Н., Яценко Н.А.
Publisher: Изд-во МФТИ, Наука. Физматлит
Year: 1995
Language: Russian
Commentary: 61912
Pages: 305
Титульный лист......Page 2
1.1. Способы возбуждения высокочастотных разрядов......Page 3
1.2. Колебания электронов в осциллирующем электрическом поле......Page 6
1.3. Электродинамические характеристики плазмы и взаимодействие плазмы высокочастотных разрядов с осциллирующими полями......Page 10
1.4. Рождение и гибель электронов; поддержание плазмы......Page 20
1.5. Простейшая модель высокочастотного емкостного разряда......Page 26
1.6. Постоянный положительный потенциал плазмы......Page 33
1.7. Стохастический нагрев электронов......Page 36
1.8. Две формы существования высокочастотного емкостного разряда......Page 42
2.1. Приэлектродные слои пространственного разряда......Page 50
2.2. Экспериментальные вольт-амперные характеристики......Page 61
2.3. Вольт-амперные характеристики и нормальные плотности тока в а-разряде (теория и численное моделирование)......Page 65
2.4. Параметры а-у-перехода......Page 79
2.5. У-разряд......Page 85
2.6. Почему при средних давлениях а-у-переход совершается скачком, а при низких - без видимого изменения параметров?......Page 99
2.7. Сосуществование- двух форм ВЧЕ разряда в промежутке между двумя электродами......Page 101
2.8. Высокочастотные емкостные разряды высокого давления......Page 104
2.9. Высокочастотные разряды с изолированными электродами......Page 108
3.1. Самосмещение в асимметричном разряде с блокировочной емкостью......Page 119
3.2. Причинные связи, определяющие параметры слоев и плазмы в высокочастотном емкостном разряде, контролируемом амбиполярной диффузией......Page 128
3.3. Динамика приэлектродных слоев и ангармоничность тока в асимметричном разряде......Page 137
3.4. Причины и характер ангармоничности тока в асимметричном и симметричном разрядах......Page 142
3.5. Батарейный эффект в асимметричном разряде......Page 145
3.6. Условия «непрозрачности» плазмы для высокочастотного поля, быстрой реакции электронов на ero изменения и «отсутствия» колебаний ионов в слоях......Page 151
3.7. Плавающий потенциал......Page 154
3.8. Приэлектродный слой......Page 157
3.9. Энергетический спектр ионов, бомбардирующих поверхность электрода......Page 171
3.10. Высокочастотные разряды в электроотрицательных газах......Page 176
3.11. а-у-переход без скачка плотности тока и у-разряд......Page 183
3.12. Некоторые вопросы, касающиеся стохастического нагрева электронов......Page 191
3.13. Численное моделирование высокочастотных разрядов низкого давления......Page 195
3.14. Магнетронный высокочастотный разряд......Page 200
Глава 4. Некоторые вопросы методики измерений и техника эксперимента......Page 205
4.1. Измерения напряжений на электродах, плазме, слоях и соответствующие ВАХ......Page 206
4.2. Зондовые измерения постоянного потенциала пространства и плазмы в высокочастотном разряде......Page 208
4.3. Активное зондирование высокочастотного разряда постоянным электрическим током......Page 217
4.4. Метод изучения поперечной структуры разряда......Page 226
4.5. Оптические методы изучения пространственной структуры высокочастотного разряда......Page 229
4.6. Лазерно-индуцированная флуоресценция и лазерная оптогальваническая спектроскопия......Page 231
4.7. Получение на опыте и управление высокочастотным разрядом......Page 233
5.1. ВЧ разряд и газовые лазеры. Историческое введение......Page 244
5.2. Причины, побуждающие обращаться к высокочастотному разряду при создании лазеров......Page 247
5.3. Влияние частоты на характеристики высокочастотного разряда и параметры активной лазерной среды......Page 254
5.4. Принципы выбора параметров и конструкции СО 2 -лазеров с диффузионным охлаждением, возбуждаемых поперечным высокочастотным разрядом......Page 260
5.5. Оптические резонаторы волноводных и щелевых СО2-лазеров с высокочастотным возбуждением......Page 271
5.6. Быстропроточные СО2-лазеры, возбуждаемые ВЧ разрядом и комбинированным ВЧ разрядом с участием постоянного тока......Page 275
5.7. Лазеры с активными средами, отличными от СО 2......Page 283
5.8. Магнитная стабилизация разряда в щелевых системах......Page 286
5.9. Плазмохимическая технология......Page 288
Список литературы......Page 295
