Учеб. пособие. - М.: МИЭТ, 2011. - 168 с.: ISBN 978-5-7256-0630-0Изложены вопросы физики газовых разрядов, физико-химических процессов в
газоразрядной плазме и механизмов взаимодействия ионов и химически активных частиц,
генерируемых в плазме, с поверхностью обрабатываемого материала. Представленный
материал охватывает физико-химические процессы, на основе которых реализуются
технологические процессы в базовых видах технологического оборудования для
производства приборов микро- и наноэлектроники, а также изделий микросистемной
техники: нанесения и травления материалов в вакууме.
Пособие содержит тот минимум знаний, который необходимо освоить студенту на
уровне общего представления о вакуумно-плазменных процессах и современном
серийном технологическом оборудовании.
Предназначено для студентов направления 210100 «Электроника и
наноэлектроника», изучающих дисциплину «Вакуумно-плазменные процессы и
оборудование».
