В книге обозначены и насколько возможно полно раскрыты современные тенденции и подходы в разработке СВЧ плазмохимического оборудования и нанотехнологий на его основе. Излагаются математическая теория диффузионных процессов и основы теории плазмы газового разряда в магнитном поле, описаны применяемые методы решения стохастических дифференциальных уравнений и уравнений Фоккера-Планка-Колмогорова. Даны обобщение и системное изложение опыта и результатов по разработке физико-технических основ новых типов микроволновых плазменных устройств. Приведены результаты практического использования разработанных микроволновых источников плазмы.\nМатериалы книги могут быть задействованы в учебном процессе в качестве спецкурсов или спецсеминаров для студентов вузов соответствующего профиля.
Author(s): Яфаров Р.К.
Publisher: ФИЗМАТЛИТ
Year: 2009
Language: Russian
Commentary: 26244
Pages: 213
Титульный лист......Page 2
Введение......Page 3
§ 1. Распространение СВЧ-колебаний в плазменных и волноводных устройствах......Page 9
§ 2. Согласование элементов волноводного тракта......Page 12
§ 3. Одномодовые СВЧ плазменные устройства......Page 18
§ 4. Передача СВЧ-энергии и пробой в круглом волноводе-реакторе......Page 23
§ 5. Многомодовые СВЧ плазменные устройства......Page 27
§ 6. Общие сведения о свойствах низкотемпературной плазмы......Page 39
§ 7. Поглощение электромагнитных волн при ЭЦР......Page 45
§ 8. Бесстолкновительное поглощение СВЧ-мощности во внешнем магнитном поле......Page 54
§ 9. Распространение электромагнитных волн в волноводах с продольно намагниченной плазмой......Page 58
§ 10.Удержание плазмы в магнитном поле......Page 62
§ 11. Равномерность обработки в одномодовых СВЧ-источниках плазмы......Page 69
§ 12. Влияние геометрии реактора и источника ионизации на параметры плазменной обработки......Page 72
§ 13. Равномерность и производительность СВЧ плазменной обработки в убывающем магнитном поле......Page 76
§ 14. Диффузия электронов в цилиндрическом плазмотроне с внешним магнитным полем......Page 83
§ 15. Диффузионная модель газовоrо СВЧ-разряда в магнитном поле с ненулевыми граничными условиями......Page 89
§ 16. Методика исследования электронной компоненты СВЧ-плазмы в магнитном поле......Page 96
§ 17. Зависимость параметров плазмы от режима генерации......Page 101
§ 18. Электрические поля в СВЧ-разряде с внешним маrнитным полем......Page 107
§ 19. Эмиссионные характеристики плазмы СВЧ газового разряда......Page 111
§ 20. Управление параметрами СВЧ ионно-плазменного источника......Page 114
§ 21. Классификация процессов ионно-плазменного травления......Page 117
§ 22. Низкоэнергетичное травление соединений А3В5 в хлорсодержащем газовом СВЧ-разряде......Page 126
§ 23. Сверхвысокочастотное ВПТ металлических пленок......Page 133
§ 24. Плазмостойкостъ резистов при СВЧ ВПТ......Page 136
§ 25. Скорость и селективность СВЧ-травления......Page 139
§ 26. Качество СВЧ-травления......Page 141
§ 27. Сверхвысокочастотное травление кремниевых пластин различных кристаллографических ориентаций......Page 144
§ 28. Механизм и анизотропность Bысоковакуумного СВЧ-травления......Page 150
§ 29. Влияние структуры поверхности на качество травления......Page 155
§ 30. Современные технологии формирования спонтанно упорядоченных наноструктур и нанокомпозитов......Page 160
§ 31. Размеры и плотность островков: возможности управления......Page 163
§ 32. Самоорrанизация кремниевых нанокристаллитов в СВЧ..плазме......Page 165
§ 33. Синтез аморфного rидрогенизированноrо кремния и eгo соединений......Page 173
§ 34. Конформные пленочные покрытия диоксида кремния......Page 179
§ 35. Самоорганизация наноалмазныx кристаллитов......Page 184
§ 36. Синтез наноалмазных композиционных материалов......Page 191
§ 37. Интеграция технологических процессов на основе плазмы СВЧ газового разряда в магнитном поле......Page 197
СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ......Page 203
