Перев.: В. Климов, В. Пальянов - М.: Наука, 1983. - 362 стр.
В книге кратко излагаются теоретические основы ионной имплантации. Описаны различные методы исследования имплантированных слоев, оборудование и технология ионного легирования. Рассмотрены проблемы, связанные с пассивацией и локализацией р-n-структуры. Приведены примеры использования ионной имплантации для создания различных классов дискретных полупроводниковых и оптоэлектронных приборов, а также в "имплантационной" металлургии.
